是的，您可以切割膜以適合您的攪拌池。您可以使用來(lái)自攪拌池的支撐盤作為模板。  

任何傳統(tǒng)的磁力攪拌板都可以使用。Sterlitech 推薦Scilogex MS7-H550-Pro。大型 7 英寸方形陶瓷底座為攪拌單元提供了良好的基礎(chǔ)，而數(shù)字顯示屏確保了對(duì)攪拌功能的精確可重復(fù)控制。

是的，您可以在攪拌池中使用AO 膜盤式過(guò)濾器。這些盤式過(guò)濾器非常易碎，必須小心處理以避免破損。用膜鑷子  小心地將盤式過(guò)濾器放在支撐盤表面，然后將支撐盤安裝在攪拌池體內(nèi)。

是的，您幾乎可以在攪拌池中使用所有微濾膜盤式過(guò)濾器 。是陶瓷膜盤式過(guò)濾器；這些太厚了，無(wú)法放入攪拌的細(xì)胞中。

是的，對(duì)于將與水或水溶液一起使用的平板膜，我們建議您在進(jìn)行分離實(shí)驗(yàn)之前對(duì)膜進(jìn)行預(yù)處理。預(yù)處理有助于確保膜按預(yù)期運(yùn)行。此外，預(yù)處理可去除膜上的防腐劑和其他殘留物。

要對(duì)膜盤進(jìn)行預(yù)處理，請(qǐng)將其安裝在攪拌池中，然后用純化的去離子水填充攪拌池。在分離實(shí)驗(yàn)預(yù)期的壓力和溫度下啟動(dòng)攪拌池的操作。讓電池運(yùn)行，直到滲透通量穩(wěn)定在預(yù)期值。然后釋放壓力，丟棄任何殘留在攪拌池中的水，并從滲透收集容器中丟棄水。您現(xiàn)在可以通過(guò)用所需的進(jìn)料樣本重新填充單元來(lái)繼續(xù)您的實(shí)驗(yàn)。任何時(shí)候都不應(yīng)讓濕潤(rùn)的膜盤變干。  

重要的是要注意，膜制造商的截留率和滲透通量規(guī)格通常基于使用標(biāo)準(zhǔn)化進(jìn)料流和壓力以錯(cuò)流模式運(yùn)行的大面積螺旋纏繞膜元件的測(cè)試。對(duì)于與標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試條件不相似的進(jìn)料流和壓力，排斥和滲透通量會(huì)有所不同，這是正常的，也是可以預(yù)料的。這也是正常的，并且可以預(yù)料，對(duì)于膜活性區(qū)域比螺旋纏繞元件小得多的設(shè)備（例如攪拌電池）的已發(fā)布規(guī)格，排斥和滲透通量將具有更大的可變性。攪拌細(xì)胞進(jìn)料中的一定濃度的積累是不可避免的，這可能會(huì)影響排斥和滲透通量。

在使用攪拌池時(shí)，有一些策略可用于優(yōu)化排斥和滲透流。首先，應(yīng)使用純化的去離子水對(duì)膜進(jìn)行預(yù)處理。有關(guān)預(yù)處理程序，請(qǐng)參閱操作手冊(cè)。其次，確保攪拌棒以適當(dāng)?shù)乃俣日_轉(zhuǎn)動(dòng)。第三，操作壓力應(yīng)與膜制造商的推薦壓力相對(duì)應(yīng)。最后，您可能希望在攪拌池中仍有一些進(jìn)料液殘留時(shí)停止實(shí)驗(yàn)，以減輕與濃度增加相關(guān)的影響。

是的，您可以將滲透線直接連接到儀器上。然而，重要的是要了解，如果膜失效或被允許干燥，則可以將全部進(jìn)料壓力施加到滲透線。如果儀器不能承受進(jìn)水壓力，則不建議直接連接滲透線。或者，如果膜過(guò)早結(jié)垢（由于高 TDS 或顆粒負(fù)載），滲透物水平可能會(huì)下降到 HPLC 入口處的檢測(cè)值以下。

攪拌池設(shè)計(jì)用于接受厚度為 350 微米或更小的平板膜。

HP4750X 攪拌池本身的最高工作溫度為 400°F (205°C)，≤2000psi (138bar)。然而，實(shí)際的最高工作溫度可能會(huì)受到密封彈性體或所使用的膜的限制

HP4750X 攪拌池頂部的壓力端口有 1/4" NPT 內(nèi)螺紋。如果使用機(jī)械攪拌器，軸適配器中的壓力端口有 1/8" NPT 內(nèi)螺紋。

HP4750X 攪拌池主體中的滲透端口有 1/8" NPT 內(nèi)螺紋。

氏合金 HP4750X 攪拌池用于對(duì) 316L 不銹鋼具有腐蝕性的進(jìn)料溶液，例如高鹽度海水、酸和具有非常高 TDS 的類似溶液。 

螺旋元件和平板膜的流動(dòng)特性明顯不同，實(shí)際上只能在定性基礎(chǔ)上進(jìn)行比較。在工廠、實(shí)驗(yàn)室或其他地方使用的膜制造過(guò)程中的可變性、水成分、測(cè)試程序和測(cè)試設(shè)備的差異都會(huì)影響水通量結(jié)果。

HP4750 攪拌池將接受直徑為 47 毫米至 49 毫米的膜盤。

HP4750X 攪拌池設(shè)計(jì)用于在比 HP4750 攪拌池更高的壓力（高達(dá) 2500psi）和更高的溫度（高達(dá) 400F）下運(yùn)行。HP4750X 電池的頂蓋和底蓋通過(guò)高強(qiáng)度螺栓固定，標(biāo)準(zhǔn) HP4750 使用夾具組件固定蓋。此外，HP4750X 的標(biāo)準(zhǔn)密封彈性體是 Viton。

HP4750X 攪拌池體由 316 不銹鋼制成，但也可用于高腐蝕性環(huán)境的 Hastelloy C-276。磁力攪拌棒涂有 PTFE 涂層，以防止腐蝕并確保廣泛的化學(xué)相容性。標(biāo)準(zhǔn)密封件由氟橡膠組成；其他密封彈性體是可選的。

HP4750X 攪拌池在室溫下的最大工作壓力為 2500psi (172bar)。然而，實(shí)際的最大工作壓力可能會(huì)受到所使用的膜的限制。

Sepa CF、CF042 和 CF016 測(cè)試池在真正的錯(cuò)流模式下運(yùn)行，并具有濃縮液和滲透液流。根據(jù)系統(tǒng)設(shè)計(jì)和所處理的流體，它們?cè)谟脩暨x擇的壓力和流量參數(shù)下運(yùn)行，并允許連續(xù)測(cè)試和取樣。HP4750 攪拌池是一個(gè)封閉的批處理系統(tǒng)，最大進(jìn)料量為 300mL，通常加壓壓縮氣體。攪拌池在正常流動(dòng)模式下運(yùn)行，沒(méi)有濃縮流。攪拌棒作用用于模擬膜表面附近的橫流。

HP4750X 攪拌池將接受直徑為 47 毫米至 49 毫米的膜盤

機(jī)械攪拌器 通常用于處理會(huì)使磁力攪拌棒停止工作的高粘度流體    。